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终于!俄罗斯首台光刻机面世

5月25日消息,俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。

俄罗斯联邦工业和贸易部副部长VasilyShpak表示,该设备可确保生产350nm的芯片。尽管350nm的芯片技术相较之下显得落后,但它在汽车、能源和电信等诸多行业中仍有着应用价值。

在全球范围内,这种复杂程度的设备由几家主要公司制造,其中最大的是荷兰的ASML公司以及佳能和尼康。目前,台积电和三星利用ASML的EUV光刻技术,已经能够生产出精细至3nm甚至2nm的芯片。

对于受到美西方严厉制裁的俄罗斯半导体产业而言,这一进展无疑是一则喜讯。这意味着,俄罗斯在自主发展半导体技术的道路上取得了突破,有望减少对外部技术的依赖,提升国内产业的自主性和竞争力。

值得一提的是,咱们国家的上海微电子,在2007年研制出国内首台90nm工艺光刻机(目前官方公布的数据是,我们可以实现22nm乃至14nm制程的光刻机的自主研发)。相比之下,俄罗斯此次能够独立完成350nm光刻机的研制,虽然制程上仍然落后很多,但这仍显示了其坚持自主研发的决心。

此外,俄罗斯还计划到2026年实现65nm芯片节点工艺,2027年实现28nm本土芯片制造,到2030年实现14nm国产芯片制造。这些计划若能实现,将为后续的俄罗斯科技界和产业界带来更多突破。

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